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壓電膜的制備方法


? ? ? ? 壓電薄膜的制備方法主要有傳統(tǒng)的真空鍍膜方法,包括真空蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、化學(xué)氣相沉積鍍膜是制備厚度在0~18μm,新型溶膠凝膠法、水熱法、電泳沉積法是制備10~100μm的壓電厚膜材料。


? ? ? ? 壓電厚膜通常是指厚度為10~100μm的壓電膜,與薄膜相比,它的壓電、鐵電性能較少受界面、表面等的影響;由于它的厚度比較大,所以這種材料也能產(chǎn)生大的驅(qū)動力,且具有更寬的工作頻率;與塊體材料相比,其工作電壓低、使用頻率高、與半導(dǎo)體工藝兼容。


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